羟氯喹及黄芩等中药对紫外线损伤角质形成细胞的保护作用
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骆丹 闵玮 林向飞 王书奎 南京医科大学第一附属医院皮肤科 南京医科大学第一附属医院皮肤科 南京医科大学第一附属医院皮肤科 南京医科大学第一附属医院皮肤科
【摘要】目的:研究羟氯喹及某些中药活性成分对紫外线损伤角质形成细胞保护作用的影响及作用环节。方法:采用30、60、90mJ/cm~2剂量的UVB照射培养的永生角质形成细胞HaCaT,以羟氯喹及中药茶多酚(EGCG)、黄芩、川芎进行干预处理,观察其保护性能及作用环节。以普通光学显微镜对照观察细胞受损程度,记录72 h内细胞生长曲线,以MTT法检测细胞活性,以酶联免疫吸附实验检测IL-6和TNF-α的分泌量。结果:经UVB照射后,受试HaCaT细胞的损伤程度与紫外线照射剂量呈正相关,细胞计数与活性下降39%-80%,在照射后72h损伤程度超过90%。药物处理后细胞活性可恢复10%-72%。经比较表明,羟氯喹具有一定的光保护作用(OD值为0.43±0.04至0 96±0.04,P0.05),EGCG具有较强的光保护效应(OD值为1.19±0.07至1.28±0.06,PO.01),空白组为0.26±0.04至0.79±0.02。此外,EGCG可抑制角质形成细胞释放IL-6和TNF-α等细胞因子;羟氯喹及黄芩只能抑制IL-6的释放,对TNF-α无明显抑制作用;而川芎则未能抑制IL-6和TNF-α的释放。结论:UVB对皮肤细胞的损伤作用具有剂量递增性;羟氯喹及茶多酚(EGCG)、黄芩、川芎具有先保护性能;抑制炎症因子的分泌活动可能是这些药物减轻UVB照射损伤作用的机制之一。
【关键词】 紫外线照射 皮肤光损伤与光保护 角质形成细胞
【分类号】R285
皮肤癌发病率的增长是由于臭氧层破坏导致环境中紫外线尤其是中波紫外线(uVB)水平上升的结果,uVB照射可引起角质形成细胞产生炎症因子及细胞DNA损伤、突变频率增加,甚至引起皮肤癌肿。 IL一6和TNF—d均是由表皮角质形成细胞合成的主要表皮细胞因子,参与紫外线引起的皮肤炎症
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[摘要]目的：研究羟氯喹及某些中药活性成分对紫外线损伤角质形成细胞保护作用的影响及作用环节。方法：采用30、60、90mJ/cm2剂量的UVB照射培养的永生角质形成细胞HaC9T，以羟氯喹及中药茶多酚(ECCC)、黄芩、川芎进行干预处理，观察其保护性能及作用环节。以普通光学显微镜对照观察细胞受损程度，记录72h内细胞生长曲线，以MTT法检测细胞活性，以酶联免疫吸附实验检测IL-6和TNF-α的分泌量。结果：经UVB照射后，受试HaCaT细胞的损伤程度与紫外线照射剂量呈正相关，细胞计数与活性下降39%—80%，在照射后72h损伤程度超过90%。药物处理后细胞活性可恢复10%—72%。经比较表明，羟氯喹具有一定的光保护作用(OD值为0.4310.04至0.96±0.04，P
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