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编号:12136514
远中移动棒结合种植体支抗移动上颌牙列的临床应用
http://www.100md.com 2011年7月15日 尹玉承 兰泽栋 张 鹏
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    参见附件(1930KB,2页)。

     [摘要] 目的:探讨正畸矫治中远中移动磨牙的有效方法。方法:对21例安氏Ⅱ错 患者采用远中移动棒与微种植体支抗有机结合,远中移动上颌磨牙的方法,观察其矫治后磨牙关系的改变情况。结果:患者的上颌磨牙均实现有效远移,解除上颌牙列的拥挤,达到Ⅰ类关系。结论:应用远中移动棒结合微种植体支抗可以有效解除牙列的拥挤,为牙列拥挤的非拔牙矫治提供了一种新方法。

    [关键词] 远中移动棒;微种植体支抗;磨牙远移;牙列拥挤

    [中图分类号] R783.5 [文献标识码]B [文章编号]1673-7210(2011)07(b)-238-02

    The clinical practice with the carriere distalizer and microscopic implant anchorage during teeth backwards movement

    YIN Yucheng1, LAN Zedong2, ZhangPeng3

    1.The Stomatology Center of the Shenzhen Fifth People's Hospital, Shenzhen 518001, China;2.Guangzhou Medical University, Guangzhou 510140, China;3.Stomatology Hospital of Foshan in Guangdong Province, Foshan 528000, China

    [Abstract] Objective: To discuss the effective treatment method during upper teeth backwards movement in clinical practice. Methods: Make upper teeth backwards with CD appliance combined MIA as anchorage for 21 patients of Angel Ⅱ occlusion, to observe the change of molar teeth. Results: Upper molars have achieved backwards movement effectively,relieved crowded of upper teeth, reached classⅠor over-classⅠrelations. Conclusion: Practice with CD appliance and MIA together in clinical can achieve teeth backwards effectively, is a new technic curing teeth crowded beyond nonextraction treatment.

    [Key words] Carriere Distalizer; Microscopic implant anchorage; Molar backwards; Teeth crowded

    上颌前牙拥挤、磨牙Ⅱ类关系是临床上常见的错 类型,对下颌骨发育正常的Ⅰ类骨面型或轻度的Ⅱ类骨面型的患者常采用非拔牙矫治,可通过远移上颌磨牙的方法来纠正磨牙关系,解除上牙弓拥挤。远中移动棒(Carriere Distalizer,CD)矫治器可以实现磨牙及前磨牙的组牙后移,微种植体支抗(Microscopic Implant Anchorage,MIA)可以提供绝对支抗,将CD及MIA联合应用,可以完美地实现牙列的整体后移。

    1 资料与方法

    1.1 一般资料

    安氏Ⅱ错 患者21例,其中男13例,女8例,年龄13~19岁,平均16.3岁。样本纳入标准:①安氏Ⅱ错 ;②头颅定位片测量结果显示下颌骨发育正常或基本正常;③尖牙和磨牙均为远中关系;④下颌牙列无明显拥挤,上颌Ⅰ度~Ⅱ度拥挤,可以实施非拔牙矫治;⑤患者面部无偏斜,未接受过正畸治疗。

    1.2 材料

    CD矫治器由Class One公司生产,有3种不同的长度规格:23 mm、25 mm、27 mm。MIA(1.5 mm×10 mm)由台湾亚太医疗器材科技股份有限公司生产。

    1.3 安装CD矫治器

    CD有3种不同的长度规格:23mm、25mm、27mm。正确的长度是使用卡钳或测量尺从上颌第一磨牙颊面中点到尖牙唇面中点的距离测量得到的。对要粘接CD的牙面进行酸蚀,涂敷粘接剂,用拇指将底板按压在磨牙牙面中央,调整尖牙底板使其就位在正确的位置上,然后光照固化。

    1.4 MIA的种植

    MIA常种植于下颌第一和第二磨牙之间,种植体初期稳定性较好,可以即刻加载,对于依从性较差的患者也可以植于上颌第二前磨牙或第一磨牙根尖区。

    1.5 弹性牵引

    使用6.5oz的强力牵引,每天除进食和刷牙外,全天24h配戴,直到尖牙,磨牙达到Ⅰ类关系。

    2 结果

    经过平均4个月的牵引,所有患者磨牙均实现远中移动,前牙区出现充足间隙排齐上颌前牙,咬合关系良好,磨牙关系达到Ⅰ关系。见图1~4。

    3 讨论

    安氏Ⅱ1类错■是临床上常见的一种错■畸形,表现为前牙深覆■、深覆盖,Ⅱ类尖牙、磨牙关系,常伴有上下颌骨矢状向关系不调。对下颌骨发育正常的Ⅰ类骨面型或轻度的Ⅱ类骨面型的患者临床上常采用非拔牙矫治,通过远移上颌磨牙的方法来纠正磨牙关系,解除上牙弓拥挤。目前,远移上颌磨牙的技术主要包括:口外弓矫治器、Wilson矫治器、排斥性磁力矫治器、钟摆矫治器、螺旋弹簧推磨牙远移技术等[1]。口外牵引装置虽然可以确切地使磨牙远移,但其佩戴不便利,对患者的依从性大,而且磨牙多为倾斜移动。口内矫治器对患者的依从性小,疗效确切,容易被患者接受,效果优于口外装置,但以往的口内矫治器在使用中易发生支抗的丧失,包括前磨牙近中移动,上颌切牙唇倾,覆盖增加,磨牙的倾斜和旋转[2];为克服以上缺点,德国Luis Carriere教授潜心研制了CD矫治器[3],它是由不含镍的不锈钢材料铸造而成。其“关节头(Ball)”和“关节窝(Socket)”是通过三维仿真模型,模仿人体的髋关节设计的。见图5~8。关节头的长臂可以做15°范围内最大限度的自由运动,有效地限制了治疗中不希望的过分运动,并为磨牙和尖牙提供了转矩控制。后部结构可使上颌磨牙做以下3种方式运动:①竖直近中倾斜的上颌磨牙牙冠,一旦磨牙牙冠被竖直,球-窝关节又可以防止其过度远中倾斜;②上颌磨牙绕腭根远中旋转,当磨牙的扭转纠正后,其臂后部结构又可以防止磨牙过度扭转;③防止磨牙向远中移动时牙冠的远中倾斜。其作用机制表现在:产生上颌第一磨牙围绕腭根的远中向旋转;提供持续的,柔和的远中向移动矫治力;当上颌尖牙到第一磨牙作为一个单位运动时,两侧后牙发生独立远中运动;不需要更换弓丝,避免更换弓丝时对牙齿产生的扭曲力;减少牙根吸收。以下颌第一磨牙及其舌弓作为支抗进行Ⅱ类颌间牵引 ......

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