[摘要]目的：研究安氏Ⅱ类错颌患者中，采用微型种植体作支抗与钟摆矫治器远移上颌磨牙进行比较，以评价两种方法的各自特点。方法：将28例成人患者随机分成两组.分别采用两种方法远移上颌磨牙。测量上颌第一磨牙在近远中方向、颊舌向、垂直向的位置变化以及水平向的扭转变化，以衡量磨牙的位置改变。并通过上中切牙的位置变化，评价支抗强弱。结果：种植体作支抗组上颌第一磨牙平均远中移动5.2mm，疗程4.4个月，平均移动速度1.2mm/月；磨牙长轴向远中倾斜角度4.6°；磨牙颊向移住1.6mm；磨牙发生远中舌向水平旋转约4.9°；上颌中切牙位置基本无改变。钟摆矫治器组上颌第一磨牙平均远中移动3.5mm.疗程4.2个月，平均移动速度0.8mm/月；磨牙长轴向远中倾斜角度12.6°；磨牙颊向移位0.5mm；磨牙发生远中舌向水平旋转约2.8°；上颌中切牙切端向远中移动0.5mm。结论：两种方法比较，种植体的支抗更强，未见前牙支抗丧失，且二者磨牙的移动方式有所区别。

    [关键词]磨牙远移；种植体支抗；钟摆矫治器；安氏Ⅱ类错颌

    种植体支抗近年来在正畸学领域受到越来越多的重视，在临床中的应用日益广泛。推上颌磨牙远移经常会遇到支抗不足的问题。本研究利用种植体作支抗推上颌磨牙远移，并将其与临床中常用的钟摆矫治器推上颌磨牙远移作比较。通过比较，既可以使我们对这种方法加深认识，了解它的临床效果和作用特点；又有助于从中发现存在的问题，以便今后加以改进，更好地为临床服务。

    1 材料和方法

    1.1 临床资料：选择28例成人患者(男性12例，女性16例)，年龄16～20岁，平均18.5岁。双侧第一磨牙为远中尖对尖关系；上颌牙列拥挤度小于5mm，下颌牙列基本正常；上下颌第二磨牙完全正位萌出；所有患者上颌第三磨牙先天缺失 ......